超净高纯试剂的研究开①发及生产水平应与微电子技术的发展保持同步或超前发展。目前国◆际上用于0.2~0.6微米工艺技术的超净高纯试剂已经实现了¤规模生产，0.09~0.2微米工艺技术用超净高纯试剂进入批量生产，小于0.09微米工艺技术用超净高纯试剂也以提供产品，正在进行规模试生产。今后我国首先应∑ 重点进行0.2~0.6微米工艺技术用超净高纯试剂的研究开发，同时还进行▼适用于0.09~0.2微米工艺技术用超净高纯试剂的前期研究，只有这样，才能确保我〖国的超净高纯试剂产业能够与国际发展步㊣伐保持一致，并能及时满足国内IC行业生产的需要。另外，由于国内在基础配套方面基础ぷ比较薄弱，在进行超净高纯试剂研究的同时，还应进行相关配套技术如超纯水、包装容器材质、工艺设备材质等技术的研究。
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醇类:工业酒精、无水乙醇、异丙醇、正丁醇、乙二醇 酮类:丙酮、丁酮、环已酮、MIBK、异佛尔酮 酯类:醋酸丁酯、乙酯、正丁酯、仲丁酯 醚类:PM、PMA、大防白水 苯类:甲苯、二甲苯、四甲苯 烷烃类:6#、120#、200#、二氯甲烷、甲缩醛、 各种≡开油水、香蕉水、清洗剂、稀释剂、洗枪水、
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